多通道分布催化剂
装置描述：本装置为两套多通道小型加氢反应装置。一套框架两套反应装置，工艺部分完全独立，控制部分共用一套控制系统。
工艺参数：
催化剂装填量：2~4ml/3~7ml
操作压力4~8mpa
设计压力10mpa
反应温度：800摄氏度
设计温度：900摄氏度
