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多通道分布催化剂

 

装置描述:本装置为两套多通道小型加氢反应装置。一套框架两套反应装置,工艺部分完全独立,控制部分共用一套控制系统。

工艺参数:

催化剂装填量:2~4ml/3~7ml

操作压力4~8mpa

设计压力10mpa

反应温度:800摄氏度

设计温度:900摄氏度